Patentes Engenharia Química

Nova configuração de tratamento por plasma denominado de cilindros catódicos (CCy)

Descrição

A nova configuração de tratamento por plasma por cilindros catódicos (CCy) proposta por esta patente modifica o atual sistema de deposição por gaiola catódica (CCPD – Cathodic Cage Plasma Deposition) comumente adotado em pesquisas no campo de modificação superficial por plasma. O novo processo denominado de Deposição por Plasma com Cilindros Catódicos (CCyPD – Cathodic Cylinder Plasma Deposition) parte da fabricação de pequenos cilindros de pós-compactados que são posicionados sobre a tampa suporte da gaiola catódica. No processo de deposição, o efeito de cátodo oco ocorre no interior dos cilindros promovendo o arrancamento do material que será combinado com elementos da atmosfera gasosa e/ou depositado sobre a amostra.

Principais Benefícios e Caracteristicas da Invenção

O CCyPD, portanto, contribui para o estudo de novos revestimentos compostos devido à possibilidade de obtenção e combinação de materiais na forma de pó antes não explorados por limitações na fabricação de gaiolas por meio dos métodos anteriormente adotados.

Inventores

• Luciano Lucas Fernandes Lima
• João Freire De Medeiros Neto
• Maxwell Santana Libório
• Thércio Henrique De Carvalho Costa
• Rômulo Ribeiro Magalhães De Sousa
• Michelle Cequeira Feitor
• Rubens Maribondo Do Nascimento

Cotitularidade

Universidade Federal do Piauí – UFPI

Status

Pedido de patente de Invenção depositado junto ao INPI

Nº do Pedido: BR 10 2023 011847 0

País

Brasil