Refere-se esta patente de invenção ao processo de fabricação de alvo para sistema sputtering, a partir da recuperação do pó policristalino de telureto de bismuto, em que este é submetido à compactação em matriz à alta pressão e à temperatura ambiente, sem passar por processo de aquecimento, o que gera como resultado uma peça sólida coesa e sinterizada, de ligação intragranular homogênea, que mantém a sua composição estequiométrica e cristalinidade. A peça final se destina ao uso como alvo em sistemas sputtering.
Em construção.
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Pedido de INVENÇÃO depositado junto ao INPI
Nº do Pedido: BR 10 2017 016231 1
Brasil
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